Processos de limpeza, passivaçäo e esterilizaçäo podem alterar a camada de óxido da superfície de implantes e favorecer ou näo a incorporaçäo de contaminantes. Neste trabalho foram preparados metalograficamente 2 (dois) discos de Ti cp, 2 (dois) de titânio grau II e 2 (dois) discos de Ti6A14V. Todas as amostras foram submetidas a um protocolo de limpeza através de solventes e lavagens com água destilada e ácido sulfúrico (H2SO4).

No processo de passivaçäo os discos foram submetidos à diferentes temperaturas:

grupo 1 - Ti cp a 200ºC por 15 minutos; grupo 2 - Ti cp a 180ºC por 30 minutos; grupo 3 - Ti grau II a 200ºC por 15 minutos; grupo 4 - Ti grau II a 180ºC por 30 minutos; grupo 5 - Ti6A14V a 200ºC por 15 minutos; grupo 6 - Ti6A14V a 180ºC por 30 minutos. A caracterizaçäo da superfície foi realizada através da análise com a espectroscopia de fotoelétrons por emissäo de raio-x (ESCA). Os resultados mostraram que o Ti, O e C säo os elementos dominantes da camada de óxido. O Ti apresenta um componente na faixa de 458,1 a 458,6eV, correspondente ao TiO2. Ti e Zn foram encontrados em todas as amostras; Ca e Na, nas amostras dos grupos 2, 3, 4, 5 e 6; N e Pb, nos grupos 2, 3, 5 e 6; Sn e Cl na amostra 2